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  • 檢索結果:共5筆資料 檢索策略: "Lithography".ekeyword (精準) and year="105"


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    1

    結合蟻群演算法與神經網路演算法所優化之光源模態以強化微影成像效能
    • 自動化及控制研究所 /105/ 博士
    • 研究生: 李國華 指導教授: 郭鴻飛
    • 幾十年來半導體工業仰賴微影光學將電路圖案之設計轉印至晶圓基板上,隨著電路設計圖樣日益縮小,目前已逼近至微影製程的光學極限,解析度增強技術(resolution enhancement techniq…
    • 點閱:1236下載:14

    2

    針對多電子束微影於縫合處考慮聰明邊界之全晶片繞線
    • 電機工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 許智翔 指導教授: 方劭云
    • 多電子束微影 (Multiple E-beam Lithography) 作為最有希望的次世代微影技術(Next Generation Lithography),可用來解決傳統電子束的低產量問題。在…
    • 點閱:289下載:5

    3

    厚膜光阻黏結劑製備與顯影特性之研究
    • 化學工程系 /105/ 碩士
    • 研究生: 周芸巧 指導教授: 曾堯宣
    • 厚膜光阻 (Thick-film photoresist)可用於製作高深寬比的結構,普遍廣泛應用於LIGA微機械加工技術,製作MEMS微電機系統元件或微結構等。負型厚膜光阻可應用於積體電路後段IC封…
    • 點閱:261下載:0
    • 全文公開日期 2022/07/21 (校內網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (校外網路)
    • 全文公開日期 本全文未授權公開 (國家圖書館:臺灣博碩士論文系統)

    4

    以數位微影定義非平面圖案之開發
    • 自動化及控制研究所 /105/ 碩士
    • 研究生: 高貫軒 指導教授: 郭鴻飛
    • 曝光微影技術是印刷電路板(printed circuit board, PCB)製程中的重要技術之一,近年來製程中對精密度要求不斷提高,並要求更高解析度更小的線寬,使得傳統接觸印刷製程之缺點越來越明…
    • 點閱:1773下載:10

    5

    基於粒子群多目標最佳化演算法實現光罩光源同步最佳化
    • 自動化及控制研究所 /105/ 碩士
    • 研究生: Zendhiastara Arthananda Yudhi 指導教授: 郭鴻飛
    • 本論文將粒子群多目標最佳化(MOPSO)演算法整合到光源和光罩同步優化(SMO)過程中,以增強極紫外(EUV)光刻成像的性能。本研究開發了同步處理光源和光罩圖案的方法。對於自由形式的光源結構基於像素…
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