檢索結果:共5筆資料 檢索策略: "Lithography".ekeyword (精準) and year="105"
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幾十年來半導體工業仰賴微影光學將電路圖案之設計轉印至晶圓基板上,隨著電路設計圖樣日益縮小,目前已逼近至微影製程的光學極限,解析度增強技術(resolution enhancement techniq…
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多電子束微影 (Multiple E-beam Lithography) 作為最有希望的次世代微影技術(Next Generation Lithography),可用來解決傳統電子束的低產量問題。在…
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厚膜光阻 (Thick-film photoresist)可用於製作高深寬比的結構,普遍廣泛應用於LIGA微機械加工技術,製作MEMS微電機系統元件或微結構等。負型厚膜光阻可應用於積體電路後段IC封…
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曝光微影技術是印刷電路板(printed circuit board, PCB)製程中的重要技術之一,近年來製程中對精密度要求不斷提高,並要求更高解析度更小的線寬,使得傳統接觸印刷製程之缺點越來越明…
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本論文將粒子群多目標最佳化(MOPSO)演算法整合到光源和光罩同步優化(SMO)過程中,以增強極紫外(EUV)光刻成像的性能。本研究開發了同步處理光源和光罩圖案的方法。對於自由形式的光源結構基於像素…